真空爐石墨發熱元件的適用場景
半導體工業：單晶硅 / 碳化硅襯底的高溫退火爐、離子注入機加熱系統，確保溫度穩定性（±1℃），避免雜質污染；
航空航天資料處理：高溫合金、陶瓷基復合資料的燒結爐，支撐 2000℃以上超高溫工藝，進步資料致密度；
新能源資料制備：鋰電池正極資料的煅燒爐、燃料電池催化劑的高溫恢復爐，習慣氫氣等恢復性氣氛；
高溫試驗設備：高校、研究所的資料功能檢驗爐、熱模仿試驗機，可精準控制升溫曲線與保溫時刻；
貴金屬熔煉：黃金、鉑金的真空熔煉爐，發熱體不與貴金屬反響，確保金屬純度達 99.999% 以上。
想要了解更多真空爐石墨發熱元件的內容，可聯系從事真空爐石墨發熱元件多年，產品經驗豐富的滑小姐：13500098659。
