真空爐石墨發熱元件的適用場景
    半導體工業：單晶硅 / 碳化硅襯底的高溫退火爐、離子注入機加熱系統，確保溫度穩定性（±1℃），避免雜質污染；
    航空航天資料處理：高溫合金、陶瓷基復合資料的燒結爐，支撐 2000℃以上超高溫工藝，提升資料致密度；
    新能源資料制備：鋰電池正極資料的煅燒爐、燃料電池催化劑的高溫復原爐，習慣氫氣等復原性氣氛；
    高溫實驗設備：高校、研究所的資料功能測試爐、熱模擬試驗機，可精準操控升溫曲線與保溫時刻；
    貴金屬熔煉：黃金、鉑金的真空熔煉爐，發熱體不與貴金屬反響，確保金屬純度達 99.999% 以上。